플라즈마전자공학연구실

한양 위키
둘러보기로 가기 검색하러 가기

본 연구실은 플라즈마 물성 연구 및 진단, 플라즈마 가열 메커니즘 및 플라즈마 식각(etching) 메커니즘 연구, 대기압 플라즈마 발생 및 제어, 차세대 플라즈마 소스 개발,전자기 및 유동 시뮬레이션, 무선 전력 전송 개발 등을 하고 있으며, 최신 플라즈마 진단 기술을 반도체 공정 장비에 적용할 수 있으며 실시간 모니터링 센서(In-Situ Process Monitoring Sensors)의 개발도 하고 있습니다. 플라즈마전자공학연구실 홈페이지 참고(2019.11)

주요 연구

  • 반도체/디스플레이용 플라즈마 진단 모니터링 Plasma Diagnostics & Monitoring
  • 반도체/ 디스플레이용 플라즈마 소스 Plasma Sources for Processing
  • 무선 전력 전송 Wireless Power Transfer