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===2020년 [[삼성미래기술육성사업]] 연구과제 선정(2020.07)=== | ===2020년 [[삼성미래기술육성사업]] 연구과제 선정(2020.07)=== | ||
*'전자를 이용한 1nm급 무손상 원자층 식각 원천 기술’(Disruptive 반도체 구조 및 구현 기술) | *'전자를 이용한 1nm급 무손상 원자층 식각 원천 기술’(Disruptive 반도체 구조 및 구현 기술) | ||
| + | * 전자를 이용해 반도체 기판을 손상시키지 않으면서 반도체 웨이퍼를 1㎚급으로 깎아내는 식각 원천 기술을 개발할 계획 | ||
| + | * 실리콘 기판의 손상 없이 원자를 대면적 식각할 수 있는 기술을 개발하는 것이 목표, 이 기술이 상용화되면 현재 한계에 다다른 반도체 성능을 1000~1만배 높일 수 있을 것으로 기대 | ||
* 관련기사 : <뉴스H> 2020.07.20 [http://www.newshyu.com/news/articleView.html?idxno=883343 정진욱 교수, 2020년 삼성미래기술육성사업 연구과제 선정] | * 관련기사 : <뉴스H> 2020.07.20 [http://www.newshyu.com/news/articleView.html?idxno=883343 정진욱 교수, 2020년 삼성미래기술육성사업 연구과제 선정] | ||
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2021년 6월 22일 (화) 11:10 판
주요연구
2020년 삼성미래기술육성사업 연구과제 선정(2020.07)
- '전자를 이용한 1nm급 무손상 원자층 식각 원천 기술’(Disruptive 반도체 구조 및 구현 기술)
- 전자를 이용해 반도체 기판을 손상시키지 않으면서 반도체 웨이퍼를 1㎚급으로 깎아내는 식각 원천 기술을 개발할 계획
- 실리콘 기판의 손상 없이 원자를 대면적 식각할 수 있는 기술을 개발하는 것이 목표, 이 기술이 상용화되면 현재 한계에 다다른 반도체 성능을 1000~1만배 높일 수 있을 것으로 기대
- 관련기사 : <뉴스H> 2020.07.20 정진욱 교수, 2020년 삼성미래기술육성사업 연구과제 선정
