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오혜근

Wony (토론 | 기여)님의 2019년 9월 19일 (목) 17:57 판
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학력

  • 1980 서울대 이학사
  • 1982 서울대 이학석사
  • 1989 미국 인디애나대학 이학박사

경력

연구관심분야

  • 반도체 소자 양산을 위한 리소그래피
  • 극자외선 펠리클
  • 계산 리소그래피

주요논문

  • “Impact of a deformed extreme ultraviolet pellicle in terms of the critical dimension uniformity“ J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, Vol.15(2), 021003 (2016).
  • “Mechanical deflection of a free-standing pellicle for extreme ultraviolet”, Microelectronic Engineering, 143, 81 (2015).
  • “Study of Temperature Behaviors for a Pellicle in Extreme-Ultraviolet Lithography: Mesh Structure”, Jpn. J. Appl. Phys. 52 126506 (2013).

언론 활동