주요연구
2020년 삼성미래기술육성사업 연구과제 선정(2020.07)
- '전자를 이용한 1nm급 무손상 원자층 식각 원천 기술’(Disruptive 반도체 구조 및 구현 기술)
- 전자를 이용해 반도체 기판을 손상시키지 않으면서 반도체 웨이퍼를 1㎚급으로 깎아내는 식각 원천 기술을 개발할 계획
- 실리콘 기판의 손상 없이 원자를 대면적 식각할 수 있는 기술을 개발하는 것이 목표, 이 기술이 상용화되면 현재 한계에 다다른 반도체 성능을 1000~1만배 높일 수 있을 것으로 기대
- 관련기사 : <뉴스H> 2020.07.20 정진욱 교수, 2020년 삼성미래기술육성사업 연구과제 선정
동정
- 한국반도체디스플레이기술학회, 제주대 반도체디스플레이연구센터 개최 '제12회 반도체∙디스플레이 제주포럼' 참석 및 토론 참여.[1]